Deutschland darf nach einer Entscheidung der Europäischen Kommission vier Halbleiteranlagen mit insgesamt 659 Millionen Euro fördern. «Durch die Förderung von Innovationen im Halbleiterbereich stärken wir unsere technologische Souveränität und die Wettbewerbsfähigkeit Europas», teilte die zuständige EU-Kommissarin Teresa Ribera dazu mit.
Deutschland darf damit folgende direkte Zuschüsse bereitstellen:
- 353 Millionen Euro für die SME Element 3-5 GmbH für eine Anlage in Baesweiler (Nordrhein-Westfalen). Dort soll laut EU-Kommission eine «weltweit einzigartige Fabrik» entstehen, in der besonders leistungsstarke Wafer hergestellt werden sollen. Wafer werden unter anderem für die Herstellung von Mikrochips und Sensoren verwendet und kommen so unter anderem in der Automobilindustrie zum Einsatz.
- 214 Millionen Euro für die Vishay Siliconix Itzehoe GmbH («Vishay») für eine Anlage in Itzehoe (Schleswig-Holstein). Dort sollen spezielle Halbleiterschalter (Power-MOSFETs) hergestellt werden, die ebenfalls in der Automobilindustrie genutzt werden.
- 74,4 Millionen Euro für die KLA-Tencor MIE GmbH («KLA») für eine Anlage in Weilburg (Hessen), unter anderem für hochmoderne Film-Messgeräte. Sie werden demnach zur Qualitätskontrolle bei der Massenproduktion von Halbleiterbauelementen eingesetzt und ermöglichen so höhere Produktivität.
- 17,9 Millionen Euro für die KETEK GmbH für eine Anlage in München (Bayern) zur Herstellung von zwei hoch spezialisierten Chips, die für industrielle Sortier- und Recyclingsysteme eingesetzt werden.
